E+H液位計是工業過程測量和控制系統中用以指示和控制液位的儀表。液位計按功能可分為基地式（現場指示）和遠傳式（遠傳顯示、控制）兩大類。遠傳式液位計，通常將現場的液位狀況轉換成電信號傳遞到需要監控的場所，或用液位變送器配以顯示儀表達到遠傳顯示的目的；液位的控制通常用位式控制方式來實現。E+H液位計通常由傳感器、轉換器和指示器三部分組成。具有控制作用的液位計，還有設定機構。

E+H液位計通常情況下采用質量流量計測量氫氣,但是需要通過縮徑來提高流速,使壓力損失很大,同時由于流量計出口處的流速很快,有發生危險的可能,并且流量計后端需要很長的直管段流速才能恢復。流量計被廣泛應用于煤化工、多晶硅、電力等行業。其工作穩定、結構簡單、使用壽命長且準確度適中、維護量小,能夠適用多種介質的測量。E+H液位計通過對矩形流量計的性能分析,其測量精度是傳統節流裝置的4倍左右,久壓力損失是傳統節流裝置的1/3左右,同時流量計要求直管段 ZUI小可以達到1.5D因而省去了大量的直管段,由于沒有活動部件,安裝和維護相對容易。

E+H液位計流動狀態平穩地從收縮段進入喉部,這樣可以大幅減小磨損。同時矩形流量計采用流線型節流通道,具有1個適當長度的喉管,該喉管起到整流的作用,有效地平擬了流體的波動,再加上后部的壓力恢復段,延伸了這種流線型流道,使得整個流量計內部不會產生渦流和震動,避免了因渦流產生的磨損。矩形流量計可以連續使用3年且測量精度不變,其使用壽命是楔形流量計的4倍以上。流量計的特殊結構能夠保證在較寬的雷諾數范圍內流量系數為線性且穩定,E+H液位計因此無論針對大流量還是小流量都可以準確測量。在多晶硅行業中氫氣是一種難以測量的工業氣體,還原爐的氫氣進料量是通過預先設定好的配比來控制進料調節閥的。如果測量到的流量波動比較大或者流量小測量不到,導致調節閥頻繁動作,從而影響硅棒品質,E+H液位計甚至導致倒棒急停;如果流量測量不準確,會導致吹掃置換不干凈,存在安全隱患。